อุปกรณ์ทําความสะอาดเนโอนและเฮลียัม

กระบวนการ

1. การผลิตเนออนและฮีเลียมดิบขั้นตอนแรกคือการผลิตเนออนและฮีเลียมดิบ โดยการกําจัดไนโตรเจนจากวัตถุดิบและทําให้มันเน้นนี้ทําโดยใช้ไอนิโตรเจนเหลวความดันต่ําเป็นแหล่งหนาวใน condenser หรือหอคอยช่วยในการบดไอนิโตรเจนในก๊าซอาหารส่งผลให้เกิดผสมเนออนและฮีเลียมดิบที่มีสารเนออนและฮีเลียมประมาณ 1% ถึง 3%
2. การกําจัดไฮโดรเจน:กระบวนการบางส่วนต้องการการกําจัดไฮโดรเจน ซึ่งทําโดยใช้วิธีกระตุ้นที่เพิ่มออกซิเจน เพื่อแปลงไฮโดรเจนเป็นน้ํา ซึ่งหลังจากนั้นถูกสับซ้อนและทําความสะอาดโดยเครื่องแห้ง
3. การกําจัดไนโตรเจน: ไนโตรเจนสามารถถูกกําจัดโดยการดึงดูดหรือการดึงดูด โดยใช้ก๊าบกระตุ้นในอุณหภูมิต่ํา
4. การ ล้าง และ การ แยก: ผสมเนออนและเฮลียัมที่แท้จะถูกชําระและแยกออกเป็นเนออนและเฮลียัมที่บริสุทธิ์ โดยใช้วิธีการผสมผสานและการดึงดูดก๊าซถูกเย็นและผ่านผ่านหอคอยปรับปรุง, ที่เนออนและฮีเลียมถูกแยกออกตามจุดเดือดที่แตกต่างกัน
5. การประมวลผลสุดท้าย: นีออนและฮีเลียมที่สะอาดแล้วถูกนําไปใช้ในการเย็นหลายขั้นตอน, การทําความร้อนใหม่, และการระบายความสะอาดสูงขณะที่ฮีเลียมยังถูกแปรรูปและเก็บเป็นก๊าซ.

ลักษณะ

• ความบริสุทธิ์สูง:กระบวนการทําความสะอาดถูกออกแบบมาเพื่อบรรลุระดับความบริสุทธิ์สูงของเนออนและฮีเลียม ทําให้มันเหมาะสําหรับการใช้งานอุตสาหกรรมต่างๆ
• ประสิทธิภาพด้านพลังงาน:อุปกรณ์ใช้หลายระยะของการแลกเปลี่ยนความร้อนและการเย็น ซึ่งช่วยในการรีไซเคิลพลังงานและลดขยะ
• ความมั่นคง:กระบวนการแบ่งออกเป็นหลายขั้นตอน แต่ละขั้นตอนถูกออกแบบมาเพื่อกําจัดองค์ประกอบเฉพาะเจาะจง เพื่อให้มั่นคงและน่าเชื่อถือในกระบวนการทําความสะอาด
• เทคโนโลยีการซับซ้อนที่ทันสมัย:การใช้คาร์บอนกิจกรรมและสารสับสนอื่น ๆ ในกระบวนการช่วยในการกําจัดสารสกัดอย่างมีประสิทธิภาพ เช่น ไนโตรเจน

การใช้งาน

• การส่องแสง: นีออนถูกใช้อย่างแพร่หลายในการใช้งานด้านแสง เช่น ป้ายและโคมไฟ.
• เครื่องทําความเย็น:ฮีเลียมถูกใช้ในการใช้ Cryogenic เนื่องจากจุดเดือดที่ต่ําและความสามารถในการรักษาอุณหภูมิต่ํามาก.
• การวิจัยทางวิทยาศาสตร์:ทั้งเนออนและเฮลียัมถูกใช้ในการทดลองทางวิทยาศาสตร์และการนําไปใช้ในงานวิจัย.
• การใช้ในทางการแพทย์:ฮีเลียมถูกใช้ในเทคโนโลยีการถ่ายภาพทางการแพทย์ เช่น เครื่อง MRI.